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ATMP具有良好的螯合、低限抑制(zhi)及(ji)晶格畸變(bian)作用(yong)。可阻止水(shui)(shui)中成垢鹽類形(xing)成水(shui)(shui)垢，特別是碳酸鈣垢的形(xing)成。ATMP在(zai)水(shui)(shui)中化學性質穩定(ding)，不(bu)易水(shui)(shui)解。在(zai)水(shui)(shui)中濃度較高時，有良好的緩蝕效果。

HEDP是(shi)一種有機膦酸類阻垢緩蝕劑，能與鐵、銅、鋅等(deng)多(duo)種金屬離子形成穩(wen)定的(de)絡合物，能溶解金屬表面的(de)氧化物。在(zai)(zai)250℃下仍(reng)能起到良(liang)好的(de)緩蝕阻垢作用，在(zai)(zai)高pH下仍(reng)很穩(wen)定，不易水解，一般光(guang)熱條件下不易分解。

HPMA一般相對分(fen)子(zi)量(liang)為400～800，無毒，易溶于(yu)水，化(hua)學穩定性(xing)及熱穩定性(xing)高，分(fen)解溫度在330℃以上(shang)。HPMA適用于(yu)堿性(xing)環(huan)境(jing)。